
一、双面检测显微镜的特点
可分别或同时观察物体的表面和底面图像,并对两图像进行比较。
还可以通过测量工具测量两图像(表面和底面)的偏差。
放大倍率50X~1000X,可选配多种图采集像模块,满足不同检测需求。

二、优势
高精度:先进的光学传感器,高性能光学组件和线性编码器,确保测量数据。
高度灵活:模块化的硬件、功能强大的软件方案。
高密度拼接:使用高密度拼接功能、多幅图像可以拼接扩展为一幅大视野全景图像。
便捷的自动化测量:无需用户干预的自动化检测,满足工业生成需求。
稳固的机械机构:充分考虑工业现场环境的结构设计,保证了高水平的重复性精度。
定制化测量方式:支持自定义测量程序,帮助客户轻松实现自动化定制测量和专项分析。


三、应用领域
可应用于半导体后端检测晶圆刻字偏移;
MEMS结构重合偏差;
IC框架边缘质量;
易拉罐开启口压痕残余厚度;
通孔垂直偏差;
新能源电池防爆片刻痕;
陶瓷电容片切割对位检查等。

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